Menu Zamknij

Spektrometr do pomiarów rozpraszania Brillouina w układzie „tandem”

Metoda badań:

Pomiar widma światła rozproszonego w zakresie 0.1 – 1000 GHz z silnym tłumieniem tła rozpraszania Rayleigha (czynnik 1015)

Kontakt:

Prof. UAM dr hab. Bartłomiej Graczykowski, haic@amu.edu.pl

Zakład Biofizyki Molekularnej, Instytut Fizyki, Wydział Fizyki UAM

Możliwości badawcze:

  • Pomiar właściwości mechanicznych (moduł Younga, liczba Poissona, tensor elastyczny, prędkość dźwięku) dla materiałów przezroczystych i nieprzezroczystych (ciało stałe lub ciecz) w funkcji temperatury od -195 C do +200 C.
  • Pomiar właściwości mechanicznych w funkcji temperatury i ciśnienia (do 2 kbar, gaz roboczy He, Ar lub N2)
  • Pomiar właściwości mechanicznych membran i błon o grubości od ok. 2 do 1000 nm.
  • Pomiar właściwości mechanicznych w zakresie 0.1 – 1000 GHz w roztworach, polimerach i cieczach prostych.
  • Wykonanie map sztywności ośrodka z rozdzielczością 1 mikrometra.
  • Widmo wibracyjne nanocząstek i układów nanocząstek o rozmiarach od kilkudziesięciu nanometrów do 1 mikrometra

Wyposażenie:

  • Wysokorozdzielczy interferometr Fabry-Perot w układzie „tandem” firmy JRS Scientific Instruments (TFP-2 HC) dostosowany do pracy z laserami w zakresie widma światła widzialnego.
  • Lasery CW, Single Frequency: 532 nm Excelsior (Spectra Physics), 660 nm Torus (Laser Quantum).
  • Stół optyczny i elementy mechaniczno-optyczne pozwalające budować układy optyczne dające dostęp do próbek różnej postaci i automatyzację pomiarów.
  • Komórka do pomiarów w wysokim ciśnieniu (do 2 kbar)
  • Komórka do pomiarów w niskiej i wysokiej temperaturze lub pod próżnią (Linkam Examina Vacuum)
  • Mikroskop optyczny Olympus BX53F2
  • Kontroler wilgotności RHGen

Poglądowe publikacje:

  1. Advanced Materials 2021, 33, 2008614., doi: 10.1002/adma.202008614
  2. Science Advances 2020; 6 : eabd4540, doi: 10.1126/sciadv.abd4540
  3. Nano Lett. 2020, 20, 1883, doi: 10.1021/acs.nanolett.9b05101
  4. Colloid Interface Sci. 2023, 633, 314, doi: 10.1016/j.jcis.2022.11.090
  5. J. Chem. Phys. 1999, 110, 2312, doi: 0.1063/1.477966